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半导体专用设备商拓荆科技拟投5亿设全资子公司

更新时间:2023-01-29 20:36:42 作者:创始人 访问量:0次 来源:

1月20日,拓荆科技股份有限公司(以下简称:拓荆科技)发布公告称,根据未来发展规划,公司拟以货币形式和/或非货币财产作价方式,合计出资人民币50,000万元设立全资子公司拓荆科技(沈阳)有限公司。该子公司主要围绕公司现有主营业务开展相关经营活动,从事高端半导体薄膜沉积设备的研发、生产、销售与技术服务。

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据了解,拓荆科技成立于2010年4月,2022年4月正式登陆科创板。公司总部位于沈阳市浑南区,主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售与技术服务,主要产品为半导体薄膜沉积设备,包括等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备、原子层沉积(ALD)设备和次常压化学气相沉积(SACVD)设备三个系列。

薄膜沉积设备是集成电路晶圆制造的核心设备,沉积的薄膜是芯片电路中的功能材料层。根据拓荆科技官网介绍,公司的薄膜沉积设备已广泛应用于集成电路晶圆制造,以及TSV封装、光波导、Micro LED、OLED显示等高端技术领域。

拓荆科技认为,拓荆科技(沈阳)有限公司的成立有利于促进公司发展战略的实施,完善和提升公司业务发展布局,增强公司盈利能力,进一步提升公司的综合竞争力。

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